产品名称:四氟化碳 四氟化碳气体 四氟甲烷 全氟化碳

英文名称:carbon tetrafluoride

英文别名:Tetrafluoromethane

CAS:75-73-0

EINECS:200-896-5

分子式:CF4

分子量:88

四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子烛刻气体，其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合体。

1. 可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨薄膜材料的烛刻。对于硅和二氧化硅体系，采用CF4-H2反应离子刻蚀时，通过调节两种气体的比例，可以获得45：1的选择性，这在刻蚀多晶硅栅极上的二氧化硅薄膜时很有用。

2. 在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、

泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。

3. 由于化学稳定性极强，CF4还可以用于金属冶炼和塑料行业等。

4. 四氟化碳的溶氧性很好，因此被科学家用于超深度潜水实验代替普通压缩空气。目前已在老鼠身上获得成功，在275米到366米的深度内，小白鼠仍可安全脱险。

四氟化碳贮存注意事项

1. 气瓶使用和检验遵照国家质量技术监督局《气瓶安全监察规程》的规定。

2. 气瓶不得靠近火源，不得受日光曝晒，与明火距离一般应该不小于10米，气瓶不得撞击。

3. 气瓶的瓶子严禁沾染油脂。

4. 气瓶内的气体不能全部用尽，应该留不小于0.04MPa剩余压力。

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